真空电镀加工可以带来富丽的外观，有用改进了外观，装饰性极强，一起在电、热、耐蚀方面的功能也得到了改进。别的电镀因为结构所占的优势，具有优良的归纳功能，易于加工成型，其工件外表的镀层结合力较高。当然，电镀在资料方面就没有金属制品资料般为所欲为了，电镀在选择资料的时分要归纳考虑资料的加工功能、机械功能、资料本钱、电镀本钱、电镀工艺以及尺寸精度等要素。
真空电镀加工的流程：
1、溶剂处理：电镀的溶剂处理使外表能湿润以便与下一过程的调理剂效果。
2、调理处理：将外表粗化成内锁的凹洞以使镀层密着住不易剥离，也称为化学粗化。
3、敏gan染：将还原剂吸附在外表，常用或其它锡化合物。
4、成核：将具有催化性物质如金、吸附于敏gan染（还原性）的外表，经还原效果结成具有催化性的金属种子然后可以用无电镀上金属。
5、清洁：电镀加工中的清洁是去除成型过程中留下的污物及指纹，可用碱剂洗净再用酸浸中和及水洗洁净。
真空电镀使用的镀层材质广泛、容易符合环保要求，简单一点，就是在真空状态下将需要涂覆在产品表面的膜层材料通过等离子体离化后沉积在工件表面的表面处理技术，真空电镀有真空蒸发镀，溅射镀，离子镀等，获得这些沉积方法的途径有多种：电加热、离子束、电子束、直流溅射、磁控溅射、中频溅射、射频建设、脉冲溅射、微波增强等离子体、多弧等等很多种方法，真空电镀可以根据的需求和经济技术条件考虑选用的涂层设备。
真空电镀可分为一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊，工艺有蒸镀、溅镀等。真空离子镀，又称真空镀膜，真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法，做出来的产品金属感强，亮度高，而相对其他的镀膜法来说，成本较低，对环境的污染小，现在为各行业广泛采用。
真空蒸发镀膜特点
1.优点
设备简单、操作容易
薄膜纯度高，质量好，厚度可控
速率快高、可用掩膜获得清晰图形
薄膜生长机理比较单纯
2.缺点
不易获得结晶结构的薄膜
薄膜与基片附着力小
工艺重复性不够好
3.真空室提供必要的真空
蒸发源和蒸发加热器放置蒸发材料并对其进行加热
基板用于接收蒸发物质并在其表面形成固体蒸发薄膜
基板加热器
测温器
