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显影适用性
A、走版均匀，波动小：
B。审液少（显影液/水洗、水洗/保护胶、保护胶/烘干段） ；
C、版材正反面不易产生划伤（导轨弧度及材质问题） ；
D、是否在版面留下脏物（辊子大小及硬度） ；
E、显影的均匀性；
F、保护胶均匀性；
G、显影不同厚度的版子，是否在显影上存在区别；
H、是否易卡版；
1、循环水的再利用系统
所以用米吐尔显影的影像特点是感光度高、影调柔和、层次丰富。这些特点正是负光材料所要求的。因此，它是负片显影液中的主要成分。显影的机理显影过程是在暗室中将已曝光的底片与显影液中的显影剂（如对二酚、米吐尔等）反应，使含有潜影银核的AgBr进一步还原为银的过程。除此之外，米吐尔的显影作用受离子和温度的影响较小，因此显影性能比较稳定从上述的特点可以看出，米吐尔的某些性能恰与对二酚相反，所以一般实用配方中，多数将米吐尔和对二酚一起配合使用，简称为M-Q显影液。在一定范围内改变两者的相对含量，可以获得各种照相性能要求的显影液。
Coll imated Light平行光以感光法进行影像转移时，为减少底片与板面间，在图案上的变形走样起见，应采用平行光进行曝光制程。这种平行光是经由多次反射折射，而得到低热量且近似平行的光源，称为Coll imated Light，为细线路制作必须的设备。目前加工行业在致力打造喷涂曝光显影一条龙服务，这种表面装饰工艺可以克服贴合的一些不足，具备一定的优势，目前蓝思、伯恩的曝光显影加工工艺相对比较成熟。由于垂直于板面的平行光，对板面或环境中的少许灰尘都非常敏感，常会忠实的表现在折晒出的影像上，造成许多额外的缺点，反不如一般散射或漫射光源能够自相互补而消弥，故采用平行光时，必须还要无尘室的配合才行。此时底片与待曝光的板面之间，已无需再做抽真空的密接（Close Contact），而可直接使用较轻松的Soft ContactOff Contact 7.
蚀刻、曝光和显影的意思分别是：
1、蚀刻：
一种将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
2、曝光：
指在摄影过程中进入镜头照射在感光元件上的光量，由光圈、快门、感光度的组合来控制。通常是指使感光纸或摄影胶片感光，摄影感光材料的感光。
3、显影：
在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通常指在复印机、打印机中显影就是用带电的色粉使感光鼓上的静电潜像转变成可见的色粉图像的过程。
