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半导体产业是现代电子工业的核心，而半导体产业的基础是硅材料工业。虽然有各种各样新型的半导体材料不断出现，但90%以上的半导体器件和电路，尤其是超大规模集成电路（ULSI）都是制作在高纯的硅单晶抛光片和外延片上的。硅片清洗对半导体工业的重要性早在50年代初就已引起人们的高度重视，这是因为硅片表面的污染物会严重影响器件的性能、可靠性、和成品率。工业清洗机工业清洗基本按照您的零件材质，工艺要求来决定选用水基清洗还是溶剂清洗。
1、航天、航空——清洗精密零部件。电子线路板，飞机轮毂，刹车系统、空调热交换器，轴承，各种金属件。
2、铁路——各种闸阀，制动阀，减震器，轴承套件，客车，冷藏车制冷系统的冷凝器，散热器，机车内燃机零、部件，电器零、部件。
3、汽车、摩托车制造业——缸体，盖，转向机构，减震器及各种机加工零件，底盘，轮毂电泳前的除油、除锈、除氧化皮。
4、光学器件——照相机镜头，显微镜，望远镜，眼镜，钟表玻璃，光学透镜的研磨后，镀膜前清洗。
5、液晶(LCD)制造——LCD基板镀ITO膜前清洗，LCD基片刻蚀，灌注液晶的前道，后道工序清洗。
6、电子制造、通讯、计算机——SMT贴片，PCB板焊接后的助焊剂，杂质清洗。
7、微电子——单晶硅片，集成电路制造的工序过程清洗。
8、电子电器元器件——各种电阻，电容，电子器件，磁器件，低压电器制品的清洗。
9、五金冲压件——各种五金制品的冲压后除油、除锈、除氧化物、除污等清洁。
工业设备的不及时清洗，会导致设备内部钝化，污垢增多，致使设备故障率变大，使用寿命周期越来越短，所以定期进行工业设备清洗非常重要。那么下面我们就一起来看看关于工业设备清洗的流程介绍吧。
设备清洗开始清洗之前，我们首先要先把设备清洗的储水罐体现灌满作为备用，同时要关闭设备的回水阀门。
其次，安排人员就位。清洗技术的操作人员手动去进行清理设备内部的杂物和污垢。紧接着用高压水喷射设备内部的淤泥进行彻底清洗。
紧接着就需要用设备清洗剂（化学试剂）进行设备内部高压消毒，并且要持续半个小时以上，完毕之后进行高压水冲洗就可以了。
以上就是关于工业设备清洗的方法介绍了，对于不同的设备和要求我们会根据上述的方法进行一些改变，从而让我们有更好的效果，而且对于清洗的一些化学方法和物理方法我们也需要正确的去选择。